Ursprünglich, bei der Erfindung der
Lithografie, hatte
Alois Senefelder eine wässrige Lösung von
Gummiarabikum verwendet, um eine Kalkoberfläche zu einer Hochdruckform herunter zu ätzen. Bei seinen Versuchen merkte er, dass er nur kurz anätzen musste, damit an diesen Stellen keine Farbe angenommen wurde. Damit war das
Flachdruckverfahren mit
Feuchtmittel (Steindruck,
Lithografie) erfunden. Bis heute ist Gummiarabikum, ein natürliches
Polysaccharid, die am besten geeignete Schutzsubstanz für die nichtdruckenden Partien. Sie kann sich sehr fest auf die moderne Plattenoberfläche aus Aluminiumoxid setzen und dort begierig Wasser anziehen. Eine einfache Lösung von Gummiarabikum und Säure in Wasser würde allerdings heute im modernen Offsetdruck nicht mehr genügen, um den sensiblen Druckprozess über eine Auflage oder gar eine ganze Arbeitsschicht aufrechtzuerhalten. Feuchtmittel sind heute fein abgestimmte wässrige Lösungen, die im Offset zusammen mit der Farbe verdruckt werden.